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產品名稱:高精度半導體無氧烘烤系統(氮氣保護/真空型)
制造廠商:東莞市新鏵機械設備有限公司
核心定位:專為半導體晶圓、IC封裝、光刻膠固化及精密元器件打造的零氧化、超低露點熱處理解決方案。
在半導體制造工藝中,微量的氧氣和水分都會導致晶圓表面氧化、光刻膠性能退化或金屬層腐蝕,直接嚴重影響芯片良率。東莞市新鏵機械設備有限公司憑借十余年高端熱能設備研發經驗,推出新一代半導體無氧烘烤設備。該設備采用工業級高氣密性設計與智能氣氛控制系統,能在高溫環境下構建ppm級超低氧含量與極低露點的純凈熱處理環境,確保半導體材料在燒蝕、固化、退火及烘干過程中實現“零氧化、零污染、高一致性”。
· 光刻工藝:光刻膠軟烘(SoftBake)、堅膜(HardBake),防止膠層氧化變質。
· IC封裝:固晶后固化、塑封后固化(PostMoldCure),消除內應力,杜絕分層。
· 晶圓處理:晶圓去濕、薄膜退火、金屬層燒結,防止金屬氧化變色。
· 精密元件:MEMS傳感器、陶瓷基板、引線框架的無氧化烘干與熱處理。
· 高氣密性爐膛:采用雙層密封結構與耐高溫硅膠/金屬密封件,漏率極低。
· 智能氣體置換:標配“真空抽吸+充氮置換”循環程序,快速將爐內氧含量降至<10ppm(可選配至<1ppm)。
· 實時監測閉環:集成高精度氧含量分析儀與露點儀,數據實時顯示于觸摸屏,并具備超標自動報警與補氮功能。
· 多區獨立控溫:采用5-9區獨立PID加熱控制,配合K型/S型熱電偶,溫度均勻性可達±1.0℃@300℃。
· 升溫曲線編程:支持多段升溫、恒溫、降溫曲線設定,滿足光刻膠等敏感材料的復雜工藝需求。
· 熱場優化設計:獨特風道或加熱板布局,消除局部熱點,確保晶圓受熱絕對均勻。
· 無塵內膽:爐膛內部全線采用SUS316L鏡面不銹鋼或陶瓷涂層,內壁光滑無死角,不產塵、不吸附。
· 高效過濾:進氣端配置HEPAH14級高效過濾器,確保充入氮氣達到Class100(ISO5)甚至更高潔凈度。
· 耐腐蝕設計:針對工藝中可能產生的微量酸性/堿性揮發物,關鍵部件進行特殊防腐處理,延長設備壽命。
· 防爆設計:針對光刻膠溶劑揮發,標配防爆泄壓口、可燃氣體濃度監測(LEL)及緊急切斷系統。
· PLC智能操控:搭載7-10寸工業觸摸屏,具備配方管理、數據記錄(符合FDA21CFRPart11標準)、遠程監控及故障自診斷功能。
· 節能高效:采用優質陶瓷纖維保溫材料,熱損失降低20%,大幅減少氮氣消耗量。
參數項目 | 規格指標 | 備注 |
設備型號 | XHMOQ-2 | 新鏵機械定制系列 |
溫度范圍 | 常溫~200℃ | 常用工藝溫度:80℃-250℃ |
控溫精度 | ±1.0℃ | PID自整定 |
溫度均勻性 | ±1.0%~±1.5% | 空載測試 |
氧含量控制 | <10ppm(標準)/<1ppm(高配) | 需客戶自備高純氮氣 |
露點控制 | ≤-60℃ | 深度除濕 |
潔凈等級 | Class100(ISO5) | 內置HEPA過濾 |
內膽材質 | SUS316L鏡面不銹鋼 | 耐酸堿腐蝕 |
控制系統 | PLC+7寸/10寸觸摸屏 | 支持數據導出/聯網 |
安全配置 | 氧含量/露點/LEL監測+防爆泄壓 | 多重聯鎖保護 |
電源規格 | AC380V,3φ,50Hz | 可定制電壓 |
· 行業深耕:15年專注光熱固化與高溫熱處理,深刻理解半導體工藝對溫度與氣氛的嚴苛要求。
· 定制能力:從單片式到批量推板式,從常壓氮氣保護到高真空環境,可根據您的晶圓尺寸、產能節拍量身定制。
· 品質承諾:核心部件(PLC、儀表、閥門)選用國際一線品牌,整機出廠前經過嚴格的氣密性測試與熱場校準。
· 全程服務:提供從工藝驗證、設備安裝、操作培訓到終身維護的一站式服務,響應速度行業領先。
結語:在半導體制造的微觀世界里,東莞市新鏵機械設備有限公司以宏大的匠心,為您守護每一度的精準與每一分純凈。選擇新鏵無氧烘烤設備,就是選擇更高的良率與更穩定的產能。
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東莞市新鏵機械設備有限公司
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